上海新阳：公司光刻胶ArF、ArF-i研发进展顺利
上海新阳最近几天在业绩说明会上表示，公司光刻胶ArF和ArF—i的R&D进展顺利，已形成两个系列的实验产品样品已经进入客户端进行测试因为测试时间长，近期不会有销量，但是产品整体技术指标挺好的，现在在这方面比较有信心此外，2021年公司完成了多项KrF光刻胶产品的R&D，验证和销售，包括国内主流磁头芯片制造公司和其他在手的大小客户，涵盖铝线工艺和铜线工艺，用于制造逻辑和模拟芯片由于客户对光刻胶的使用持谨慎态度，目前仍在小批量使用，所以今年的销量可能不会很大，但明年的使用量可能会增加更多，后续增长空间更大
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